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便攜式接觸角測量儀ST-2在半導體行業(yè)的運用
接觸角是指在液體或氣體中，物體表面與液面之間的交接處形成的角度，當物體表面與液體接觸時，如果物體表面的分子間吸引力大于液體分子間的吸引力，則物體表面會被液體浸潤；反之，如果物體表面的分子間吸引力小于液體分子間的吸引力，則物體表面不會被液體浸潤，在這種情況下，物體表面與液面的交接處形成一個銳角，稱為接觸角，接觸角的大小反映了物體表面與液體之間的相互作用力。
接觸角測量通常通過光學或圖像處理技術進行，其中觀察液滴在固體表面上的形狀，并根據(jù)一定的幾何關系計算接觸角。這種測量不僅在科學研究中廣泛應用，還在工程和制造領域中有著重要的應用，例如在設計防霧鏡、改善液體流體系統(tǒng)和優(yōu)化材料表面性質(zhì)等方面。
接觸角在科學和工程領域中的應用
接觸角的應用非常廣泛，幾乎涉及到我們生活的方方面面。比如我們希望汽車玻璃上不沾雨水、但反之我們希望汽車鋼板上的油漆不脫落；比如農(nóng)藥和蔬菜葉面、涂料和內(nèi)外墻面、絕緣油和絕緣材料、納米材料表面改性等等。
晶圓的潔凈度
對于好的粘接來說，材料表面的潔凈度是至關重要的。RCA清洗是硅片加工前的標準清洗方法。清洗的目的是清除表面的所有異物，包括灰塵、油、硅塵等。清洗步驟分為兩個，RCA1和RCA2。RCA1將去除任何有機污染，而RCA2處理離子和金屬污染。中間通常用稀釋的*去除氧化薄層。水破裂實驗通常用于檢查清潔程序后的表面狀態(tài)。水接觸角的測量提供了一種可追溯和定量的方法來進行表征。
表征光刻膠的附著力
適當?shù)墓饪棠z附著力對于成功的光刻工藝是至關重要的。顯影或刻蝕過程中的附著力喪失將導致圖案錯誤，這對正在制造的設備來說是致命的。在光刻膠和硅片之間需要附著力促進劑，這一點早已被認識到。在應用光阻劑之前，常用的是六甲基二硅氮烷（HMDS）底漆。硅片上的水接觸角通常是相當?shù)偷?，因為表面從環(huán)境濕度中吸附了水。如果在使用光刻膠之前沒有去除水層，那么在隨后的顯影或化學刻蝕過程中，光刻膠有分層的風險。在脫水烘烤后，通常會涂覆疏水性HMDS涂層，使表面更加疏水而不易吸水。水接觸角的測量可以用來尋找最佳的HMDS處理方案，并檢查處理是否成功。
檢查PCB清潔度
除去多余的助焊劑是焊接過程中的重要部分。這是因為一些助焊劑具有腐蝕性，它們的殘留物可能會繼續(xù)發(fā)揮作用，并在后期損壞電路板。由于助焊劑對PCB的有害影響，針對PCB有各種各樣的清潔測試。這些測試包括離子色譜、溶劑萃取電阻率（ROSE）測試、表面絕緣電阻（SIR）測試和目視測試。其中ROSE是最常使用的。ROSE測試的主要優(yōu)點是測試速度快、價格低。問題是它不能檢測到所有類型的污染，而它能檢測到的污染是在整個表面上的平均值。水接觸角的測量為ROSE測試提供了一個很好的替代方案。水接觸角的測量是通過在PCB上放置一滴水來完成的。如果水珠凸起大（即接觸角大），表面不具有保形涂層。如果水擴散（即接觸角?。?，則表面沒有有機污染物，可以進行涂層。接觸角測量的優(yōu)點是可以在非常小的區(qū)域進行。
產(chǎn)品配置：
標準組件：測量裝置、橡膠目鏡、AA 電池、使用說明書 可選
配件：便攜包、校準工具
*請單獨準備一個可產(chǎn)生 2μL 液滴的微量移液器。
產(chǎn)品特點：
設備占地面積最小。無論板的大小，從小塊到大板。此外，測量板不需要安裝設備的整個表面都是平坦的；可以在凹入或相對于安裝設備的表面凹進的表面上進行測量。由于光源的電源僅為一節(jié)干電池，因此可用于戶外及任何領域的接觸角測量。
規(guī)格：
應用：
各種形狀和尺寸的樣品
+無法切割的基板玻璃板
、車身、衛(wèi)生潔具
+嵌入式
培養(yǎng)皿、凹透鏡、衛(wèi)生潔具
+防霧評估
鏡片、遮陽板、護目鏡、窗玻璃
清潔和表面改性評價
+清洗評價
晶圓、硬盤、玻璃面板
+表面改性評價等
離子、UV、電暈放電
